Filtrazione

Entegris offre soluzioni di filtrazione basate su diverse tecnologie di supporti e criteri di prestazioni, oltre a servizi analitici per rilevare contaminazioni in ambienti tecnologici e analizzare/validare i materiali.

Filtrazione di gas

Filtri in nichel, acciaio inox e Teflon®. I prodotti per la filtrazione dei gas ultrapuri Entegris offrono un filtraggio da 0,003 micron per applicazioni con gas ultrapuro. I filtri per gas Wafergard® consentono di velocizzare il trattamento dei gas di processo e contemporaneamente di ridurre l'ingombro complessivo dei contenitori del gas. I prodotti per filtrazione di gas ultrapuri Entegris sono utilizzati dai principali OEM di semiconduttori e produttori di strumenti per etching, CVD, PVD e di impiantazione ionica, oltre che di altre applicazioni ad elevate prestazioni come impianti fotovoltaici, schermi piatti, memorie dati e HBLED (diodi a elevata luminosità), Life Science e batterie agli ioni di litio. Entegris incorpora i filtri per gas nei nostri purificatori per consentire lo svolgimento dei processi ed erogare gas puliti senza contaminazioni molecolari e particellari.

Filtrazione di liquidi

Controllo delle contaminazioni nei liquidi di processo. Il controllo della contaminazione è in continua evoluzione e consente sviluppi tecnologici e miglioramenti della resa nella produzione di semiconduttori, schermi piatti, memorie dati, celle fotovoltaiche, Life Science e batterie agli ioni di litio. Agenti abrasivi per CMP, acidi, basi, fotochimica e acqua deionizzata, richiedono tutti una filtrazione avanzata per rimuovere particelle che causano difetti e agglomerati a monte del wafer o della superficie del sottostrato. Entegris offre una linea completa di filtri che consentono ai nostri clienti di risolvere i problemi posti dal controllo della contaminazione.